等離子體增強(qiáng)滑動(dòng)式PECVD管式爐是一款滑動(dòng)式PECVD系統(tǒng)。該CVD系統(tǒng)包含500W等離子源, 80Dx1600L mm 滑動(dòng)式, 4通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和機(jī)械泵機(jī)組，此PECVD系統(tǒng)主要用于：等離子誘導(dǎo)表面改性；等離子清洗；等離子聚合; 表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、等離子體類金剛石等多種薄膜，生長納米或石墨烯。與傳統(tǒng)的CVD管式爐系統(tǒng)相比，只需較低的制備溫度，滑軌式還可以快速加熱和快速冷卻。
等離子體化學(xué)氣相沉積PECVD系統(tǒng)以真空管式爐為主體，具有固態(tài)等離子源、分開式反應(yīng)氣體進(jìn)氣系統(tǒng)，動(dòng)態(tài)襯底溫控，控制真空系統(tǒng)，采用集中現(xiàn)場控制總線技術(shù)的nobody控制軟件，以及友好用戶操作界面來操作。
等離子體化學(xué)氣象沉積技術(shù)是未來先進(jìn)前展性科學(xué)技術(shù)，有廣闊的發(fā)展前景。鄭州恒通爐業(yè)有限公司的可組合式等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置是相關(guān)單位的不二選擇。
