小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀,配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選,用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧,功能出色、配置齊全,兼容超凈間,性能穩定??捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等,廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀,配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選,用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧,功能出色、配置齊全,兼容超凈間,性能穩定??捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等,廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數:
設備名稱 | 分體式單靶磁控濺射儀 |
電源 | AC220V/50HZ |
射頻電源(選配) | 輸入電源:220V |
輸入功率:0-300W | |
輸入頻率:13.56MHZ | |
冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷 | |
直流電源(選配) | 輸入電源:220V |
直流輸出功率:0-500W | |
最大工作電流:0.75A | |
冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷 | |
石英腔室 | 石英罩:167mm OD×152mm ID×250mm |
下法蘭蓋為304不銹鋼材質,上法蘭蓋為鋁材質 | |
腔室極限真空度 | |
配置機械泵<1pa(7.5*10-2torr) | |
配置分子泵<5*10-3pa(3.7*10-5torr) | |
法蘭蓋上帶有手動泄壓閥 | |
樣品臺 | 一個直徑為?50mm的不銹鋼樣品臺,樣品臺可轉動,旋轉速率為0.5-5RPM/min |
樣品臺標配加熱功能,樣品臺最高加熱溫度500℃ | |
可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能,樣品臺冷卻最低溫度5℃ | |
濺射靶頭 | 標配2尺寸的磁控濺射頭,內部嵌有冷卻水管,可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻,從而能夠可以長時間進行濺射 |
配有一手動操作的擋板,當第一次濺射清楚靶材表面的氧化層和污物層,擋住基片,防止污染基片 | |
樣品臺和靶頭之間的距離可以調節,調節范圍60-80mm(可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭) | |
靶材 | 設備配有一塊銅靶材,尺寸:?50.8mm(2”)×3mm(厚度)(可根據客戶要求選配其他靶材:Al,Cr,Ni,Pt,Ti,Sn等) |
要求靶材尺寸:?50.8mm×0.1-5mm(厚度) | |
外形尺寸 | 主機尺寸:460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保質期 | 1年(不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件) |
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術,具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中,通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數,可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。
小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀,配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選,用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧,功能出色、配置齊全,兼容超凈間,性能穩定??捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等,廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數:
設備名稱 | 分體式單靶磁控濺射儀 |
電源 | AC220V/50HZ |
射頻電源(選配) | 輸入電源:220V |
輸入功率:0-300W | |
輸入頻率:13.56MHZ | |
冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷 | |
直流電源(選配) | 輸入電源:220V |
直流輸出功率:0-500W | |
最大工作電流:0.75A | |
冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷 | |
石英腔室 | 石英罩:167mm OD×152mm ID×250mm |
下法蘭蓋為304不銹鋼材質,上法蘭蓋為鋁材質 | |
腔室極限真空度 | |
配置機械泵<1pa(7.5*10-2torr) | |
配置分子泵<5*10-3pa(3.7*10-5torr) | |
法蘭蓋上帶有手動泄壓閥 | |
樣品臺 | 一個直徑為?50mm的不銹鋼樣品臺,樣品臺可轉動,旋轉速率為0.5-5RPM/min |
樣品臺標配加熱功能,樣品臺最高加熱溫度500℃ | |
可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能,樣品臺冷卻最低溫度5℃ | |
濺射靶頭 | 標配2尺寸的磁控濺射頭,內部嵌有冷卻水管,可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻,從而能夠可以長時間進行濺射 |
配有一手動操作的擋板,當第一次濺射清楚靶材表面的氧化層和污物層,擋住基片,防止污染基片 | |
樣品臺和靶頭之間的距離可以調節,調節范圍60-80mm(可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭) | |
靶材 | 設備配有一塊銅靶材,尺寸:?50.8mm(2”)×3mm(厚度)(可根據客戶要求選配其他靶材:Al,Cr,Ni,Pt,Ti,Sn等) |
要求靶材尺寸:?50.8mm×0.1-5mm(厚度) | |
外形尺寸 | 主機尺寸:460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保質期 | 1年(不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件) |
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術,具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中,通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數,可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。
小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀,配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選,用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧,功能出色、配置齊全,兼容超凈間,性能穩定??捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等,廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數:
設備名稱 | 分體式單靶磁控濺射儀 |
電源 | AC220V/50HZ |
射頻電源(選配) | 輸入電源:220V |
輸入功率:0-300W | |
輸入頻率:13.56MHZ | |
冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷 | |
直流電源(選配) | 輸入電源:220V |
直流輸出功率:0-500W | |
最大工作電流:0.75A | |
冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷 | |
石英腔室 | 石英罩:167mm OD×152mm ID×250mm |
下法蘭蓋為304不銹鋼材質,上法蘭蓋為鋁材質 | |
腔室極限真空度 | |
配置機械泵<1pa(7.5*10-2torr) | |
配置分子泵<5*10-3pa(3.7*10-5torr) | |
法蘭蓋上帶有手動泄壓閥 | |
樣品臺 | 一個直徑為?50mm的不銹鋼樣品臺,樣品臺可轉動,旋轉速率為0.5-5RPM/min |
樣品臺標配加熱功能,樣品臺最高加熱溫度500℃ | |
可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能,樣品臺冷卻最低溫度5℃ | |
濺射靶頭 | 標配2尺寸的磁控濺射頭,內部嵌有冷卻水管,可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻,從而能夠可以長時間進行濺射 |
配有一手動操作的擋板,當第一次濺射清楚靶材表面的氧化層和污物層,擋住基片,防止污染基片 | |
樣品臺和靶頭之間的距離可以調節,調節范圍60-80mm(可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭) | |
靶材 | 設備配有一塊銅靶材,尺寸:?50.8mm(2”)×3mm(厚度)(可根據客戶要求選配其他靶材:Al,Cr,Ni,Pt,Ti,Sn等) |
要求靶材尺寸:?50.8mm×0.1-5mm(厚度) | |
外形尺寸 | 主機尺寸:460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保質期 | 1年(不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件) |
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術,具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中,通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數,可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。
小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀,配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選,用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧,功能出色、配置齊全,兼容超凈間,性能穩定。可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等,廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數:
設備名稱 | 分體式單靶磁控濺射儀 |
電源 | AC220V/50HZ |
射頻電源(選配) | 輸入電源:220V |
輸入功率:0-300W | |
輸入頻率:13.56MHZ | |
冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷 | |
直流電源(選配) | 輸入電源:220V |
直流輸出功率:0-500W | |
最大工作電流:0.75A | |
冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷 | |
石英腔室 | 石英罩:167mm OD×152mm ID×250mm |
下法蘭蓋為304不銹鋼材質,上法蘭蓋為鋁材質 | |
腔室極限真空度 | |
配置機械泵<1pa(7.5*10-2torr) | |
配置分子泵<5*10-3pa(3.7*10-5torr) | |
法蘭蓋上帶有手動泄壓閥 | |
樣品臺 | 一個直徑為?50mm的不銹鋼樣品臺,樣品臺可轉動,旋轉速率為0.5-5RPM/min |
樣品臺標配加熱功能,樣品臺最高加熱溫度500℃ | |
可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能,樣品臺冷卻最低溫度5℃ | |
濺射靶頭 | 標配2尺寸的磁控濺射頭,內部嵌有冷卻水管,可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻,從而能夠可以長時間進行濺射 |
配有一手動操作的擋板,當第一次濺射清楚靶材表面的氧化層和污物層,擋住基片,防止污染基片 | |
樣品臺和靶頭之間的距離可以調節,調節范圍60-80mm(可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭) | |
靶材 | 設備配有一塊銅靶材,尺寸:?50.8mm(2”)×3mm(厚度)(可根據客戶要求選配其他靶材:Al,Cr,Ni,Pt,Ti,Sn等) |
要求靶材尺寸:?50.8mm×0.1-5mm(厚度) | |
外形尺寸 | 主機尺寸:460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保質期 | 1年(不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件) |
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術,具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中,通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數,可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。